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G 物理
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
1/00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
1/20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
1/22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
1/26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
1/36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
1/38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
1/50 .未包含在G03F 1/20-G03F 1/26组中的空白掩膜;其制备
1/52 .反射镜
1/54 .吸收剂,例如不透明材料
1/60 .基板
1/62 .薄膜或薄膜集合,例如在支持框架上具有薄膜;其制备
1/66 .专门适用于掩膜,空白掩膜或薄膜的容器;其制备
1/68 .未包含在G03F 1/20至G03F 1/50组中的制备工艺
1/88 .通过制备具有模拟浮雕的原版的照相过程的制备
1/90 .采用蒙太奇方法制备
1/92 .从印刷表面制备